🌿 Extra nyugtató ápolás pattanások után
A Dr.Althea 345 Relief Cream Mask vegán cellulóz fátyolmaszk a pattanások után kipirosodott, száraz vagy stresszes bőr extra megnyugtatására. A gyártó 30% teafalevél-vizet és centellából származó nyugtató összetevőket emel ki.
✨ Mit tud?
- Segít csillapítani a pattanások után visszamaradó kellemetlen bőrérzetet.
- Intenzív nedvességpótlást ad 10–15 perc alatt.
- 30% teafalevél-vízre épül.
- Centellás összetevőkkel támogatja a nyugodtabb bőrérzetet.
- Jól tapadó vegán cellulóz lap segíti az esszencia egyenletes eloszlását.
🧬 Főbb hatóanyagok
30% teafalevél-víz
A formula kiemelt nyugtató alapja a problémás, pattanások utáni bőr ápolására.
Centella-komplex
A centellából származó komponensek a kipirosodott, stresszes bőr komfortját támogatják.
Hidratáló esszencia
A maszk bőséges nedvességet ad, hogy a száraz, húzódó bőr puhábbnak érződjön.
🎯 Kinek ajánljuk?
Pattanások utáni, kipirosodott, érzékeny vagy dehidratált bőrre, amikor gyors nyugtató-hidratáló pluszlépésre van szükség.
💗 Miért szeretjük?
Mert a 345 vonal célzott nyugtató szemléletét egy gyors, jól tapadó fátyolmaszkba viszi át.
❓ Q&A
Mennyi ideig maradjon fenn?
10–15 percig, majd távolítsd el és paskold be a maradék esszenciát.
Le kell öblíteni?
Nem.
Aktív pattanások mellett is használható?
A márka problémás és pattanások utáni bőr nyugtatására pozicionálja; sérült, nyílt bőrfelületre azonban ne tedd.
Aqua (Water), Tea Tree Leaf Water, Methylpropanediol, 1,2-Hexanediol, Butylene Glycol, Glycerin, Niacinamide, Octyldodeceth-16, Triethylhexanoin, Caprylic/Capric Triglyceride, Pentylene Glycol, Carbomer, Hydroxyethylcellulose, Tromethamine, Allantoin, Trehalose, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Dipotassium Glycyrrhizate, Disodium EDTA, Panthenol, Soybean Seed Extract, Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Pantothenic Acid, Centella Asiatica Leaf Water, Cyclodextrin, Centella Asiatica Extract, Hydrogenated Lecithin, Madecassoside, Ceramide NP, Cholesterol, Camellia Sinensis Leaf Water, Resveratrol, Beta-Glucan, Sodium DNA, Nelumbo Nucifera Leaf Extract
*Az összetevők a gyártó döntése szerint változhatnak. Az összetevők legteljesebb és legfrissebb listája a termék csomagolásán található.
*Az összetevők a gyártó döntése szerint változhatnak. Az összetevők legteljesebb és legfrissebb listája a termék csomagolásán található.
Arctisztítás után készítsd elő a bőrt tonerrel. Simítsd a maszkot az arcra, hagyd hatni 10–15 percig, majd távolítsd el. A maradék esszenciát finoman paskold a bőrbe. Ne öblítsd le.
Használati óvintézkedések:
1. Az első használat előtt javasolt allergiatesztet (folttesztet) végezni (pl. az alkar belső részén).
2. Ha bármilyen rendellenes tünetet vagy mellékhatást, például vörösséget, duzzanatot vagy viszketést tapasztalsz, hagyd abba a termék használatát és szükség esetén fordulj szakemberhez.
3. Ne használd sérült vagy sebes területeken.
4. Gyermekek elől elzárva, közvetlen napfénytől távol tartandó.
5. Ha szembe kerül, azonnal öblítsd ki.
Értékelések
Még nincsenek értékelések.